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질문제목
  • 삼성전자, 최소 선폭 ‘14㎚ D램’ 양산 돌입… 미세화 경쟁 주도권
질문
질문내용 [ 2021-10-13 09:15 ]
멀티레이어 EUV 공정 적용 생산성·소비전력 20% 개선 SK하이닉스, CIS사업 발판 비메모리 분야로 영역 확대삼성전자가 극자외선(EUV) 공정을 적용한 14나노미터(㎚·10억 분의 1m) D램(사진) 양산에 돌입했다. 이번 14나노 D램은 14나노대에서 구현 가능한 최소의 선폭이 적용된 업계 최선단 제품이다. 삼성전자는 메모리 반도체 경쟁력과 직결된 선폭 미세화 경쟁에서 한발 앞서가게 된 만큼 마이크론, SK하이닉스와 3파전을 벌이고 있는 글로벌 D램 반도체 시장에서 점유율을 한층 확대해 나간다는 전략이다. 삼성전자는 이번 14나노 D램은 업계에서 유일하게 멀티레이어(5개 층)에 EUV 공정을 적용해 14나노대에서 구현 가능한 최선단의 공정을 구현했다고 12일 밝혔다. 업계 관계자는 “경쟁자들이 14나노급을 ‘4세대’라는 단어로 뭉뚱그리는 것과 달리 삼성이 14나노라는 정확한 선폭을 공개하는 것은 그만큼 기술력에 자신감이 있다는 것”이라고 평가했다. 업계에서는 세대가 거듭되고 공정이 미세화할수록 원가 절감 난도가 급격히 높아지는 만큼 삼성이 이번 양산을 기점으로 주요 경쟁사에 비해 한발 앞선 경쟁력을 확보하게 됐다는 평가가 나온다. 실제 이번 14나노 D램은 이전 세대 대비 생산성이 약 20% 향상됐으며 소비전력 역시 이전 공정 대비 약 20% 개선됐다. 삼성전자는 이번 신규 공정을 최신 DDR5(Double Data Rate 5) D램에 가장 먼저 적용할 계획이다. DDR5는 최고 7.2기가비피에스(Gbps·초당 기가비트)의 속도로 DDR4 대비 속도가 2배 이상 빠른 차세대 D램 규격이다. 최근 인공지능(AI), 머신러닝 등 데이터를 이용하는 방식이 고도화되면서 데이터센터, 기업용 서버 시장 등에서 고성능 DDR5에 대한 수요가 지속해서 커지고 있다. 삼성전자는 업계 최선단의 14나노 공정과 높은 성숙도의 EUV 공정 기술력을 기반으로 차별화된 성능과 안정된 수율을 구현해 DDR5 D램 대중화를 선도한다는 전략이다. SK하이닉스도 이날 주력인 메모리를 넘어 비메모리 반도체 분야로 사업 영역을 더 적극적으로 확대하겠다는 비전을 밝혔다. SK하이닉스는 특히 이미지센서(CIS) 시장이 가파르게 성장하고 있는 만큼 해당 분야에서 선두권으로 도약해 비메모리 시장 진출의 교두보로 삼겠다는 전략이다. 송창록 SK하이닉스 CIS 비즈니스 담당(부사장)은 자사 뉴스룸을 통해 “CIS 사업은 SK하이닉스가 비메모리 시장을 확대해 나갈 수 있는 교두보 역할을 한다는 점에서 중요성이 크다”고 말했다. 현재 CIS 시장의 선두주자는 소니와 삼성전자다. 이 두 기업이 차지하고 있는 시장 점유율(매출 기준)은 약 80%이며, 나머지 약 20%를 놓고 SK하이닉스, 옴니비전, 갤럭시코어 등이 경쟁하고 있다.
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